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        PHASE SHIFT MASK（PSM掩模）， ，，，，通过MOSI层爆发180°的相位差以降低光的衍射作用， ，，，，从而提高掩模图形区分率

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        相移掩模手艺优点：镌汰邻近效应， ，，，，使用光的相关性， ，，，，抵消部分衍射扩展效应， ，，，，改变空间光强漫衍， ，，，，使更多的能量从低频分派到高频上， ，，，，填补投影物镜通低频阻高频的弱点， ，，，，提高空间图像的反差， ，，，，改变像质， ，，，，使区分率和焦深增大

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